選擇高周波設備的優(yōu)點(diǎn)
一．高頻介質(zhì)加熱，也可稱(chēng)為高周波設備是靠處在高頻電場(chǎng)中材料自身的高頻損耗而發(fā)熱。減少了由于傳導，輻射等造成的熱損耗，提高了加熱效率。
二．只要高頻電場(chǎng)是均勻的（比如平板電容之間）則處在高頻電場(chǎng)材料的加熱就是均勻的，只是一般傳導加熱無(wú)法比擬的。
三．由于材料是處在電容的所形成的電容高頻電場(chǎng)中才能被加熱，只要根據需要，把電容的電極（模具）做成不同形狀，就可以對材料做到有選擇的加熱。無(wú)模具處的材料將不會(huì )被加熱。這又進(jìn)一步提高了加熱效率。
四．由于加熱功率很容易做到可控，可調。因此可以適用不同的加熱要求，便于實(shí)現自動(dòng)化生產(chǎn)。
五．適當的設置電極和容器，還可實(shí)現真空狀態(tài)中加熱材料。
正因為高頻介質(zhì)加熱有諸多優(yōu)點(diǎn)，因此被廣泛應用在高頻干燥，成型，壓花；高頻膠合高頻熔接；食品藥品殺菌，高頻應用理療，半導體提純，熔煉，等離子發(fā)生器等領(lǐng)域。
